论文 | 深紫外Micro LED显示无掩膜光刻技术

　　具有足够功率的氮化铝镓深紫外微发光二极管(micro-light-emitting diodes, micro-LEDs)开发，一直是主要挑战之一，这尤其限制了这些器件的各种应用。

　　今日，香港科技大学Feng Feng等、南方科技大学刘召军Zhaojun Liu等，在Nature Photonics 上发文，已经开发了先进的制造工艺，以演示高效270nm深紫外UVC微发光二极管LED，以及具有高分辨率的大尺寸深紫外UVC微发光二极管LED显示器，以用于无掩模光刻。

　　光学和电学表征了尺寸从3µm到100μm的深紫外UVC微发光二极管LED，以评估这些新兴器件。3μm器件实现了5.7%峰值外量子效率和396Wcm–2最大亮度。每英寸2,540个像素的并联深紫外UVC微发光二极管LED阵列，具有背面反射层，表现出了发射均匀性和准直性。分辨率为320×140的深紫外UVC微发光二极管Micro-LED显示器专为无掩模光刻应用而设计，利用定制的集成电路驱动器，实现了最佳性能。

　　深紫外UVC微发光二极管LED和深紫外UVC微型显示器，提供了足够的剂量，以在数秒内完全曝光光致抗蚀剂膜，这是由于增强的电流扩展均匀性、提升的热分散和优异的光提取效率。这项工作会开辟一条无掩模光刻的道路，并产生半导体行业的革命性发展。

图1：制造深紫外ultraviolet，UVC微发光二极管light-emitting diode，LED。

图2：独立深紫外UVC微发光二极管LED表征。

图3：并联深紫外UVC微发光二极管LED阵列。

图4：深紫外UVC微发光二极管LED显示器及其在图案转移上的应用。

　　文献链接

　　Feng, F., Liu, Y., Zhang, K. et al. High-power AlGaN deep-ultraviolet micro-light-emitting diode displays for maskless photolithography. Nat. Photon. (2024).

　　https://doi.org/10.1038/s41566-024-01551-7

　　https://www.nature.com/articles/s41566-024-01551-7